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到2024年住友化学先进工艺光刻胶的整体产能将比2019年增加1.5倍

2021-09-01 18:18:12    来源:IT之家    阅读量:14142   

:为满足当地芯片工厂的需求,日本大公司住友化学计划在韩国建设先进半导体材料工厂,生产最先进工艺的光刻胶,同时将在日本新增生产线,最先进工艺的光刻胶整体产能有望增长1.5倍。

据MoneyDJ报道,住友化学8月31日宣布,将加强最先进工艺的光刻胶生产,并计划在日本大阪设立ArF和EUV光刻胶生产线,预计2023年上半年投产与此同时,公司位于韩国宜山市的全资子公司东宇精细化工也将建设ArF用润湿光刻胶生产室,预计2024年上半年投产

如果上述计划顺利,到2024年,住友化学最先进工艺光刻胶的整体产能将比2019年增加1.5倍。

根据消息显示,住友化学用于ArF的光刻胶目前仅由日本大阪工厂生产,由于其性能和质量上的优势,在全球拥有较高的市场份额,而韩国东宇精细化工工厂曾是公司I线和KrF的光刻胶生产基地,拥有20多年的生产经验。

据《日经新闻》报道,住友化学决定在韩国建设ArF用光刻胶工厂,以回应当地客户分散生产的愿望,从而为韩国芯片工厂稳定供货需要指出的是,住友化学此次增加的光刻胶产品并未列入日本对韩国的出口管制清单

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